(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210756707.X (22)申请日 2022.06.30 (71)申请人 华海清科股份有限公司 地址 300350 天津市津南区咸水沽镇聚兴 道11号 (72)发明人 李长坤　赵德文　路新春　曹自立　 (51)Int.Cl. H01L 21/67(2006.01) H01L 21/687(2006.01) H01L 21/02(2006.01) B08B 1/00(2006.01) B08B 1/02(2006.01) B08B 3/02(2006.01) (54)发明名称 一种晶圆竖直清洗装置和方法 (57)摘要 本发明公开了一种晶圆竖直清洗装置和方 法， 其中方法包括： 在滚动的清洗刷对旋转的晶 圆进行滚动刷洗时， 使第一喷淋杆将清洗液供给 至位于清洗刷上方的晶圆表面的上部区域； 使第 二喷淋杆将清洗液供给至位于清洗刷下方的晶 圆表面的下部区域， 其中， 所述下部区域相对于 晶圆的旋转方向位于清洗刷的上游侧区域。 权利要求书2页 说明书8页 附图5页 CN 114975191 A 2022.08.30 CN 114975191 A 1.一种晶圆竖直清洗装置， 其特 征在于， 包括： 晶圆旋转组件， 用于支撑晶圆并驱动晶圆在竖直 面内旋转； 两个清洗刷， 分别设置 于晶圆的两侧并对晶圆表面进行滚动刷洗； 清洗刷驱动机构， 用于支撑清洗刷并驱动清洗刷移动和转动； 第一喷淋杆， 用于将清洗液 供给至位于清洗刷上 方的晶圆表面的上部区域； 第二喷淋杆， 用于将清洗液供给至位于清洗刷下方的晶圆表面的下部区域， 其中， 所述 下部区域相对于晶圆的旋转方向位于清洗刷的上游侧区域。 2.如权利要求1所述的晶圆竖直清洗装置， 其特征在于， 所述两个清洗刷以相反方向滚 动， 并且其与晶圆接触位置向晶圆施加向下的摩擦力。 3.如权利要求2所述的晶圆竖直清洗装置， 其特征在于， 从所述清洗刷的进液端看过 去， 所述晶圆向上转动， 位于晶圆左侧的清洗刷顺时针旋转， 位于晶圆右侧的清洗刷逆时针 旋转。 4.如权利要求1所述的晶圆竖直清洗装置， 其特征在于， 所述清洗液相对于晶圆表面的 供给角度为5 °～30°。 5.如权利要求1所述的晶圆竖直清洗装置， 其特征在于， 所述晶圆的转速为20～ 200rpm。 6.如权利要求1所述的晶圆竖直清洗装置， 其特征在于， 所述晶圆旋转组件包括主动辊 轮和从动辊轮， 主动辊轮和从动辊轮设置 于晶圆下 方。 7.如权利要求6所述的晶圆竖直清洗装置， 其特征在于， 所述主动辊轮和从动辊轮配置 有沿辊体的外周侧设置的卡槽 。 8.如权利要求6所述的晶圆竖直清洗装置， 其特征在于， 所述主动辊轮上设置有用于检 测晶圆转速的转速传感器。 9.如权利要求1所述的 晶圆竖直清洗装置， 其特 征在于， 所述清洗刷驱动机构包括： 清洗刷支撑组件， 用于支撑位于待清洗晶圆两侧的两个清洗刷； 清洗刷移动组件， 其与清洗刷支撑组件连接， 以驱动清洗刷支撑组件及其上的清洗刷 整体移动。 10.如权利要求1至9任一项所述的晶圆竖直清洗装置， 其特征在于， 还包括位移传感 器， 用于测量两个清洗刷之间的距离 。 11.一种晶圆竖直清洗方法， 其特 征在于， 包括： 在滚动的清洗刷对旋转的晶圆进行滚动刷洗时， 使第 一喷淋杆将清洗液供给至位于清 洗刷上方的晶圆表面的上部区域； 使第二喷淋杆将清洗液供给至位于清洗刷下方的晶圆表面的下部区域， 其中， 所述下 部区域相对于晶圆的旋转方向位于清洗刷的上游侧区域。 12.如权利要求1 1所述的晶圆竖直清洗方法， 其特 征在于， 还 包括： 使所述第二喷淋杆喷淋化学 液， 以防止清洗刷回沾污染物。 13.如权利要求1 1所述的晶圆竖直清洗方法， 其特 征在于， 还 包括： 控制位于晶圆两侧的两个清洗刷以相反方向滚动， 并且其与晶圆接触位置向晶圆施加 向下的摩擦力。 14.如权利要求13所述的 晶圆竖直清洗方法， 其特 征在于， 还 包括：权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 114975191 A 2控制所述晶圆的旋转方向， 以从所述清洗刷的进液端看过去所述晶圆向上转动。 15.如权利要求1 1所述的晶圆竖直清洗方法， 其特 征在于， 还 包括： 使晶圆旋转， 控制第一喷淋杆开始向晶圆表面喷淋清洗液； 清洗刷夹紧晶圆开始进行刷洗， 持续第一预设时长； 控制第一喷淋杆停止喷淋， 使第二喷淋杆开始向晶圆表面喷淋清洗液， 并持续第二预 设时长； 重复执行以上第一喷淋杆和第二喷淋杆的交替清洗步骤。 16.如权利要求11所述的晶圆竖直清洗方法， 其特征在于， 所述清洗液相对于晶圆表面 的供给角度为5 °～30°。 17.如权利要求11所述的晶圆竖直清洗方法， 其特征在于， 所述晶圆的转速为20～ 200rpm。 18.如权利要求1 1所述的晶圆竖直清洗方法， 其特 征在于， 还 包括： 检测清洗刷的污染程度， 当清洗刷的污染程度达到一定程度后， 控制第 一喷淋杆和/或 第二喷淋杆旋转 一定角度以对清洗刷进行冲洗 。 19.如权利要求11所述的晶圆竖直清洗方法， 其特征在于， 根据 所述第二喷淋杆的作业 情况调整其作业角度， 以使清洗液喷淋覆盖晶圆与清洗刷的交界线。 20.如权利要求11所述的晶圆竖直清洗方法， 其特征在于， 调 整所述第 二喷淋杆的角度 使其垂直于晶圆或清洗装置的内壁喷射， 以利用所述晶圆或清洗装置的内壁反射的清洗液 来清洗所述第二喷淋杆。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 114975191 A 3