(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210641684.8 (22)申请日 2022.06.08 (71)申请人 安徽应友光电科技有限公司 地址 239500 安徽省滁州市全椒 县十谭现 代产业园 (72)发明人 李韬略　 (51)Int.Cl. C23F 1/36(2006.01) C25D 11/10(2006.01) C25D 11/16(2006.01) C23F 17/00(2006.01) B08B 3/02(2006.01) (54)发明名称 一种去除DIF FUSER新品孔内毛刺的工艺 (57)摘要 本发明公开了一种去除DIFFUSER新品孔内 毛刺的工艺， 其工艺流程如下： S1、 测量DIFF孔径 大小； S2、 使用挂具装挂DIFF； S3、 脱脂清洗处理 脏污； S4、 高压冲洗脱脂清洗处理残留药液； S5、 碱腐蚀去除表面加工痕和部分的孔内毛刺； S6、 中和处理除去碱腐蚀中表面产生的污灰物； S7、 高压冲洗中和处理药液残留； S8、 电化学处理使 DIFF孔内毛刺在电解液中溶解， 同时表面形成一 定的AL2O3膜层； S9、 水洗； S10、 高压冲洗水洗残 留； S11、 碱腐蚀去除DIFF表面氧化铝 膜层及孔内 残留毛刺； S12、 测量DIF F孔径是否 达标。 权利要求书1页 说明书4页 CN 115181975 A 2022.10.14 CN 115181975 A 1.一种去除DIF FUSER新品孔内毛刺的工艺， 其特 征在于， 其工艺 流程如下： S1、 测量DIF F孔径大小； S2、 使用挂具装挂DIF F； S3、 脱脂清洗处 理脏污； S4、 高压冲洗脱脂清洗处 理残留药 液； S5、 碱腐蚀去除表面加工痕和部分的孔内毛刺； S6、 中和处 理除去碱腐蚀中表面产生的污灰物； S7、 高压冲洗中和处 理药液残留； S8、 电化学处 理使DIFF孔内毛刺在电解液中溶解， 同时表面形成一定的AL2O3膜层； S9、 水洗； S10、 高压冲洗水洗残留； S11、 碱腐蚀去除DIF F表面氧化铝膜层 及孔内残留毛刺； S12、 测量DIF F孔径是否 达标。 2.根据权利要求1所述的一种去除DIFFUSER新品孔内毛刺的工艺， 其特征在于： 所述S3 中脱脂清洗处理的槽液由铝材脱脂剂跟纯水构成， 浓度在30 ‑40g/L， 温度50 ‑60℃， 浸泡时 间5‑10min。 3.根据权利要求1所述的一种去除DIFFUSER新品孔内毛刺的工艺， 其特征在于： 所述 S4、 S7和S10中高压冲洗使用高压冲洗枪， 压力设置0.8MPa以上， 距离15 ‑30cm对产品表面进 行冲洗。 4.根据权利要求1所述的一种去除DIFFUSER新品孔内毛刺的工艺， 其特征在于： 所述S5 中碱腐蚀的槽液由分析 纯NaOH跟纯 水构成， 浓度在2 ‑5g/L， 温度3 0‑40℃， 浸泡时间3 0‑60s。 5.根据权利要求1所述的一种去除DIFFUSER新品孔内毛刺的工艺， 其特征在于： 所述S6 中中和处理槽液由硝酸跟纯 水构成， 浓度在20 0‑300g/L， 温度3 0‑40℃， 浸泡时间3 ‑10min。 6.根据权利要求1所述的一种去除DIFFUSER新品孔内毛刺的工艺， 其特征在于： 所述S8 中电化学处 理的槽液由草 酸跟纯水构成， 浓度在3 0‑40g/L， 温度20 ‑25℃。 7.根据权利要求1所述的一种去除DIFFUSER新品孔内毛刺的工艺， 其特征在于： 所述S9 中水洗的槽液由纯 水构成， 将产品浸泡槽内， 时间5 ‑10min。 8.根据权利要求1所述的一种去除DIFFUSER新品孔内毛刺的工艺， 其特征在于： 所述 S11中碱腐蚀处理的槽液由分析纯NaOH跟纯水构成， 浓度在15 ‑20g/L， 温度35 ‑40℃， 浸泡时 间2‑3min。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 115181975 A 2一种去除DIF FUSER新品 孔内毛刺的工艺 技术领域 [0001]本发明涉及液晶显示面板生产技术领域， 具体为一种去除D IFFUSER新品孔内毛刺 的工艺。 背景技术 [0002]在液晶显示面板的制造过程中， 需要使用化学气相沉积  (Chemical  vapor  deposition， 简称  CVD)工艺在 玻璃基板表面沉积一些功能薄膜。 CVD设备中采用了一种气 体扩散器Diffuser （以下简称DIFF） 来进行沉积成膜， 在CVD工艺过程中， 除了一些特定气体 外， 在反应腔室内还需通电对气体解离形成Plasma （电浆） ， 反应过程中如发生Arcing会损 坏液晶面板玻璃和设备。 [0003]DIFF新品为6061系 铝材， 孔径大小在 0.4‑0.5mm之间， 新品加工后孔内存在大量的 毛刺无法进行表面研磨处理， 且孔内的毛刺在CVD设备作业过程中发生Arcing的概率会大 大提升， 因此需对DIFF新品孔内毛刺进行去除， 现有技术中对孔内毛刺去除的成本较大， 无 法更好的处 理， 为此我们提出一种去除DIF FUSER新品孔内毛刺的工艺用于解决上述问题。 发明内容 [0004]本发明的目的在于提供一种去除D IFFUSER新品孔内毛刺的工艺， 以解决上述背景 技术中提出的问题。 [0005]为实现上述目的， 本发明提供如下技术方案： 一种去除DIFFUSER新品孔内毛刺的 工艺， 其工艺 流程如下： S1、 测量DIF F孔径大小； S2、 使用挂具装挂DIF F； S3、 脱脂清洗处 理脏污； S4、 高压冲洗脱脂清洗处 理残留药 液； S5、 碱腐蚀去除表面加工痕和部分的孔内毛刺； S6、 中和处 理除去碱腐蚀中表面产生的污灰物； S7、 高压冲洗中和处 理药液残留； S8、 电化学处理使DIFF孔内毛刺在电解液中溶解， 同时表面形成一定的AL2O3膜 层； S9、 水洗； S10、 高压冲洗水洗残留； S11、 碱腐蚀去除DIF F表面氧化铝膜层 及孔内残留毛刺； S12、 测量DIF F孔径是否 达标。 [0006]优选的， 所述S3中脱脂清洗处理的槽液由铝材脱脂剂跟纯水构成， 浓度在 30‑40g/ L， 温度50‑60℃， 浸泡时间5 ‑10min。 [0007]优选的， 所述S4、 S7和S10中高压冲洗使用高压冲洗枪， 压力设置0.8MPa以上， 距离说　明　书 1/4 页 3 CN 115181975 A 3