(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202222259505.2 (22)申请日 2022.08.26 (73)专利权人 谷微半导体科技 （江苏） 有限公司 地址 226000 江苏省南 通市开发区星湖大 道1692号21 （22） 幢16008室 (72)发明人 陶朝清　黄维　陈吉福　 (74)专利代理 机构 南通云创慧泉专利代理事务 所(普通合伙) 32585 专利代理师 邵永永 (51)Int.Cl. B62B 3/10(2006.01) B62B 5/00(2006.01) F17D 1/14(2006.01) F17D 3/01(2006.01) H01L 21/67(2006.01) (54)实用新型名称 一种腐蚀液体加料小推车 (57)摘要 本实用新型属于晶圆清洗设备领域， 公开了 一种腐蚀液体加料小推车， 包括底板， 底板的下 方设有若干个行走轮， 底板上方设有箱体， 箱体 内限位放置有存 液桶， 存液桶上方在箱体的表面 设有出液口， 存液桶和出液口之间设有液泵， 并 通过管子相连， 本实用新型的优点是， 通过液泵 和调压开关阀的设置， 存液桶可以通过小推车对 晶圆清洗机清洗液储存装置直接进行自动加料， 通过小推车底板上限位块和存液桶底部的凹槽 的配合， 使存 液桶在移动的过程中不会在小推车 上随意移动， 防止在给晶圆清洗机清洗液储存装 置发生意外， 威胁生产安全。 权利要求书1页 说明书4页 附图4页 CN 217730530 U 2022.11.04 CN 217730530 U 1.一种腐蚀液体加料小推车， 包括底板(1)， 所述底板(1)的下方设有若干个行走轮 (2)， 其特征在于， 所述底板(1)上方设有箱体(3)， 箱体(3)内限位放置有存 液桶(4)， 所述存 液桶(4)上方在箱体(3)的表面设有出液口(5)， 所述存液桶(4)和出液口(5)之间设有液泵 (6)， 并通过 管子(7)相连。 2.根据权利要求1所述的一种腐蚀液体加料小推车， 其特征在于， 所述存液桶(4)的顶 部设有盖子(8)， 所述盖子(8)上固定有导液管(9)， 所述导液管(9)从盖子(8)外侧延伸至存 液桶(4)内部 。 3.根据权利要求2所述的一种腐蚀液体加料小推车， 其特征在于， 所述导液管(9)上方 与管子(7)连接， 所述 导液管(9)的直径大于管子(7)的直径。 4.根据权利要求3所述的一种腐蚀液体加料小推车， 其特征在于， 所述底板(1)上设有 凸起的限位块(10)， 所述存液桶(4)底部设有与限位块(10)配合的凹槽， 所述存液桶(4)顶 部设有提手(1 1)。 5.根据权利要求3所述的一种腐蚀液体加料小推车， 其特征在于， 所述导液管(9)与液 泵(6)之间的管子(7)上设有手动阀门(12)。 6.根据权利要求1所述的一种腐蚀液体加料小推车， 其特征在于， 所述箱体(3)顶部设 有进气口(13)， 所述进气口(13)与液泵(6)通过管子(7)相连， 所述液泵(6)与进气口(13)之 间靠近箱体(3)顶部一侧的管子(7)上设有调压开关阀(14)。 7.根据权利要求6所述的一种腐蚀液体加料小推车， 其特征在于， 所述调压开关阀(14) 的顶部设有调压 旋钮(15)， 所述调压开关阀(14)的一侧设有压力显示器(16)。 8.根据权利要求7所述的一种腐蚀液体加料小推车， 其特征在于， 所述箱体(3)在调压 旋钮(15)和压力显示器(16)的上方开有操作口并设有盖板(17)， 所述箱体(3)在靠近存液 桶(4)的一侧设有操作门(18)， 所述箱体(3)在存液桶(4)顶部开有观察门(19)。 9.根据权利要求1所述的一种腐蚀液体加料小推车， 其特征在于， 所述箱体(3)一侧的 箱壁上设有扶手(20)。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217730530 U 2一种腐蚀液体加料 小推车 技术领域 [0001]本实用新型属于晶圆清洗设备 领域， 具体涉及一种腐蚀液体加料小推车。 背景技术 [0002]在半导体芯片的制造过程中， 由于集成电路内各元件及连线相当微细， 因此制造 过程中， 如果遭到尘粒、 金属的污染， 很容易造成晶片内电路功能的损坏， 形成短路或断路 等， 导致集成电路的失效以及影响几何特 征的形成。 [0003]因此， 在制作过程中除了要排除外界的污染源外， 集成电路制造步骤如高温扩散、 离子植入前等均需要进行湿法清洗或干法清洗工作。 干、 湿法清洗工作是在不破坏晶圆表 面特性及电特性的前提下， 有效地使用化学溶液或气体清除残留在晶圆上之微尘、 金属离 子及有机物之杂质。 [0004]其中， 有机物杂质在IC制程中以多种形式存在， 如人的皮肤油脂、 净化室空气、 机 械油、 硅树脂 真空脂、 光致抗蚀剂、 清洗溶剂等。 每种污染物对IC制程 都有不同程度的影响， 通常在晶片表面形成有机物薄膜阻止清洗液到达晶片表面。 因此有机物的去除常常在清洗 工序的第一 步进行。 [0005]硫酸是典型用于去除有机污染物的清洗液。 硫酸可以使有机物脱水而碳化， 而双 氧水可将碳化产物氧化成一氧化 碳或二氧化 碳气体。 [0006]但是硫酸也是一种强腐蚀剂， 人体沾上会对皮肤造成损伤， 严重的话会危及生命。 同时硫酸泄漏也会 对加工生产环境造成影响。 [0007]在晶圆加工厂中， 传统的硫酸运输， 就是将硫酸桶放在小推车上， 推到晶圆清洗机 旁边， 由人工将硫酸倒入晶圆清洗 机清洗液储 存装置里。 [0008]这种硫酸运输方式存在较大隐患， 首先， 小推车在 推送的路上， 有可能会因为路面 倾斜， 急停急走， 人员碰撞等因素， 导致硫酸桶从小推车上发生倾倒等事故。 其次， 硫酸桶比 较重， 人力添加的时候会因为失误 等原因造成泄漏， 飞溅的情况， 威胁生产安全。 实用新型内容 [0009]为解决上述问题， 本实用新型提供了一种腐蚀液体加料小推车， 通过液泵和调压 开关阀的设置， 存液桶可以通过小推车对晶圆清洗机清洗液储存装置直接进行自动加料， 通过小推车底板上限位块和存液桶底部的凹槽的配合， 使存液桶在移动的过程中不会在小 推车上随意移动， 防止在给晶圆清洗 机清洗液储 存装置发生 意外， 威胁生产安全。 [0010]本实用新型提供的技 术方案如下： [0011]一种腐蚀液体加料小推车， 包括底板， 底板的下方设有若干个行走轮， 底板上方设 有箱体， 箱体内限位放置有存液桶， 存 液桶上方在箱体的表 面设有出液口， 存液桶和出液口 之间设有液泵， 并通过 管子相连。 [0012]进一步的， 存液桶的顶部设有盖子， 盖子上固定有导液管， 导液管从盖子外侧延伸 至存液桶内部 。说　明　书 1/4 页 3 CN 217730530 U 3