(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202221329790.4 (22)申请日 2022.05.31 (73)专利权人 成都高真科技有限公司 地址 610000 四川省成 都市高新区科新路8 号附19号 (72)发明人 徐康元　 (74)专利代理 机构 成都九鼎天元知识产权代理 有限公司 51214 专利代理师 张杰 (51)Int.Cl. B05B 13/02(2006.01) B05B 15/68(2018.01) (54)实用新型名称 一种应用 于半导体制造工艺的具有间隙调 节功能的喷头 (57)摘要 本实用新型公开了一种应用 于半导体制造 工艺的具有间隙调节功能的喷头， 半导体制备装 置的技术领域， 具体包括主体和密封盖本体； 所 述主体用于放置晶圆； 所述密封盖本体与主体可 拆卸连接； 所述密封盖本体上设置有安装板， 所 述安装板 上连接有喷头； 所述安装板与密封盖本 体之间设置有伸缩装置， 本实用新型， 通过伸缩 装置调节喷头与晶圆之间的间隙； 通过调节伸缩 装置， 调节安装板与密封板之间的间隙， 从而调 整喷头的高度， 进而调整喷头与晶圆之间的间 隙， 结构简单， 调节过程方便， 能够有效缩短装置 的调整时间， 从而提高生产率。 权利要求书1页 说明书4页 附图2页 CN 217341979 U 2022.09.02 CN 217341979 U 1.一种应用于半导体制造 工艺的具有间隙调节 功能的喷头， 其特 征在于， 包括： 主体(1)， 所述主体(1)用于放置晶圆(2)； 密封盖本体(3)， 所述密封 盖本体(3)与主体(1)可拆卸连接； 所述密封 盖本体(3)上设置有安装板(4)， 所述 安装板(4)上 连接有喷头(5)； 所述安装板(4)与密封盖本体(3)之间设置有伸缩装置， 通过伸缩装置调节喷头(5)与 晶圆(2)之间的间隙。 2.根据权利要求1所述的一种应用于半导体制造工艺的具有间隙调节功能的喷头， 其 特征在于， 所述主体(1)内设置有用于放置晶圆(2)的支 架(6)； 主体(1)上开设有供喷头(5)插 入的开口， 所述喷头(5)位于支 架(6)的正上 方。 3.根据权利要求2所述的一种应用于半导体制造工艺的具有间隙调节功能的喷头， 其 特征在于， 所述伸缩装置为波纹管(7)， 所述波纹管(7)与密封盖本体(3)之间设置有第一密 封圈(8)， 所述波纹管(7)与安装板(4)之间设置有第二密封圈(9)。 4.根据权利要求3所述的一种应用于半导体制造工艺的具有间隙调节功能的喷头， 其 特征在于， 所述波纹管(7)的一侧分别通过固定螺栓(10)与密封盖本体(3)和安装板(4)连 接； 所述波纹管(7)的另一侧通过高度调节螺 栓(11)与安装板(4)连接； 通过旋转高度调节螺栓(11)， 调节安装板(4)与密封盖本体(3)之间的距离， 从而调节 喷头(5)与晶圆(2)之间的间隙。 5.根据权利要求4所述的一种应用于半导体制造工艺的具有间隙调节功能的喷头， 其 特征在于， 还包括陶瓷绝缘体(12)， 所述陶瓷绝缘体(12)将喷头(5)固定在密封盖本体(3) 上。 6.根据权利要求5所述的一种应用于半导体制造工艺的具有间隙调节功能的喷头， 其 特征在于， 所述陶瓷绝 缘体(12)的横截面呈L状。 7.根据权利要求6所述的一种应用于半导体制造工艺的具有间隙调节功能的喷头， 其 特征在于， 所述陶瓷绝缘体(12)与喷头(5)之间设置有第二伸缩装置， 通过第二伸缩装置， 调节喷头(5)与安装板(4)之间的间隙。 8.根据权利要求7所述的一种应用于半导体制造工艺的具有间隙调节功能的喷头， 其 特征在于， 所述第二伸缩装置为第二波纹管(13)， 所述第二波纹管(13)的一端与喷头(5)之 间设置有第三密封圈(14)， 所述第二波纹管(13)的另一端与陶瓷绝缘体(12)之间设置有第 四密封圈(15)。 9.根据权利要求8所述的一种应用于半导体制造工艺的具有间隙调节功能的喷头， 其 特征在于， 所述第二波纹管(13)的一侧通过第二固定螺栓(16)分别与喷头(5)和陶瓷绝缘 体(12)连接， 所述第二波纹管(13)的另一侧通过第二高度调节螺 栓(17)与喷头(5)连接； 通过旋转第二高度调节螺栓(17)， 调节喷头(5)与安装板(4)之间的距离， 从而调节喷 头(5)与晶圆(2)之间的间隙。 10.根据权利要求9所述的一种应用于半导体制造工艺的具有 间隙调节功能的喷头， 其 特征在于， 所述喷头(5)一端设置有间隙调节段(18)， 所述安装板(4)上设置有安装孔， 所述 间隙调节段(18)置 于安装孔内， 使得喷头(5)可 上下移动。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217341979 U 2一种应用于半导体制造 工艺的具有间隙调节功能的喷头 技术领域 [0001]本实用新型涉及半导体制备装置的技术领域， 具体涉及 一种应用于半导体制造工 艺的具有间隙调节 功能的喷头 。 背景技术 [0002]在半导体制造设备中喷头是使气体及化学制品均匀分散在晶圆整个表面的核心 部件； 目前喷头均通过螺丝固定在上盖上， 为了使分散在晶圆表面的气体或化学制品的厚 度保持一致， 提高及实现所需形态的厚度映射， 需要调节喷头与加热器之 间的间隙， 则需要 通过调节加热器的高度去校准， 但由于加热器的高度调节装置位于加热器下部， 调整时由 于空间狭小， 作业困难， 也会出现重复作业的问题。 实用新型内容 [0003]本实用新型的目的在于： 针对目前 需要通过调节加热器的高度去调节加热器与喷 头之间的间隙， 但由于加热器的高度调节装置位于加热器下部， 其空间狭小， 作业非常困 难， 且会出现重复作业的问题， 提供了一种应用于半导体制 造工艺的具有间隙调节功能的 喷头， 解决了上述问题。 [0004]本实用新型的技 术方案如下： [0005]一种应用于半导体制造 工艺的具有间隙调节 功能的喷头， 包括： [0006]主体， 所述主体用于放置晶圆； 优选地， 所述主体呈圆柱体状， 上端开口， 主体内部 放置有加热器， 所述晶圆置 于加热器上 方； [0007]密封盖本体， 所述密封盖本体与 主体可拆卸连接； 优选地， 所述密封盖本体也呈圆 柱体状， 所述主体上方设置有外螺纹， 所述密封盖内侧设置有内螺纹， 通过螺纹连接实现密 封盖本体和主体之间的可拆卸连接； [0008]所述密封盖本体上设置有安装板， 所述安装板上连接有喷头； 优选地， 所述安装板 也呈圆柱体 状； [0009]所述安装板与密封盖本体之间设置有伸缩装置， 通过伸缩装置调节喷头与晶圆之 间的间隙； 即通过伸缩装置调节安装板的高度， 安装板移动带动喷头移动， 从而调整喷头与 晶圆之间的间隙。 [0010]进一步地， 所述主体内设置有用于放置晶圆的支架； 优选地， 所述支架为加热器的 一部分， 其用来 放置晶圆； 主体上开设有供喷头插 入的开口， 所述喷头位于支 架的正上 方。 [0011]进一步地， 所述伸缩装置为波纹管， 所述波纹管呈圆环状； 所述波纹管与密封盖本 体之间设置有第一密封圈， 所述波纹管与安装板之 间设置有第二密封圈； 优选地， 所述第一 密封圈和第二密封圈均为O型圈， 起密封作用。 [0012]进一步地， 所述波纹管的一侧 分别通过固定螺栓与密封盖本体和安装板连接； 所 述波纹管 的另一侧 通过高度调节螺栓与安装板连接； 优选地， 所述波纹管 的内侧上下两端 均通过固定螺栓与密封盖本体和安装板连接， 通过固定螺栓， 固定波纹管上端与安装板的说　明　书 1/4 页 3 CN 217341979 U 3